Personal des Lehrstuhls für Chemische Verfahrenstechnik

Prof. Dr.-Ing. habil. Christof Hamel

Raum: G25-210

+49 391 67-52330

Sekretär/-in

Nancy Ziebell

Raum: G25-211

+49 391 67-58644

Ökonom/-in

Marion Hesse

Raum: G25-214

+49 391 67-54668

Wiss. Mitarbeiter/-in

Dr.-Ing. Martin Gerlach

Raum: G25-213

+49 391 67-54651

Wiss. Mitarbeiter/-in

M.Sc. Sabine Kirschtowski

Raum: G25 - 216

+49 391 67-58128

Wiss. Mitarbeiter/-in

M.Sc. Jan Paul Walter

Raum: G25-215

+49 391 67-54649

M.Sc. Wieland Kortuz

Raum: G25-217

54652

M.Sc. Lothar Kaps

Raum: G25-215

+49 391 67-51685

M.Sc. Adrian Baum

Raum: G25-217

54655

Wiss. Mitarbeiter/-in

M.Sc. Igor Gamm

Raum: G25-216

+49 391 67-54652

Wiss. Mitarbeiter/-in

Wiss. Mitarbeiter/-in

M.Sc. Pascal Kumar

Raum: G25-219

54662

Wiss. Mitarbeiter/-in

M.Sc. Aleksandr Sobolev

Raum: G25-217

+49 391 67-54654

B.Eng. Lisa Sommer

Raum: G25-219

54662

Mitarbeiter/-in Technik und Verwaltung

Luise Blach

Raum: G25-220

+49 391 67-54656

Auszubildende/-r

Toni Hauschild

Raum: G25-220

52198

Prof. Dr.-Ing. habil. Andreas Seidel-Morgenstern

+49 391 67-58643

Wiss. Mitarbeiter/-in

Wiss. Mitarbeiter/-in